中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业机密案终审胜诉!
来源:火狐体育官方版    发布时间:2023-10-23 00:26:41| 阅读次数:518

  7月11日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布,公司在针对美国半导体设备大厂泛林集团(Lam Research Corporation,又称“科林研发”)提起的侵犯商业机密案中赢得二审胜诉。

  在上海市高级人民法院2023年6月30日的终审判决中,法院命令泛林集团销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片。法院还禁止泛林集团及泛林集团的两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有的技术秘密。法院还命令泛林集团为其侵犯商业机密向中微公司支付赔偿金和法律费用。

  中微公司曾于2010年12月向上海市第一中级人民法院提起诉讼,主张泛林集团侵犯中微公司的商业秘密。

  具体来说,中微公司当时主张泛林集团在数年前非法获取了中微公司机密的技术文件和机密的反应腔内部照片。中微公司还主张泛林集团安排其技术专家在证据保全时不恰当地察看和测量中微刻蚀机的内部结构,然后使用获取的信息于2009年1月向台湾智慧财产法院起诉中微专利侵权,试图影响中微产品进入台湾市场。

  资料显示,2009年1月,泛林集团指控中微公司型号为 Primo D-RIE 的等离子蚀刻机侵害它的台湾 TW136706“电浆反应器中之多孔的电浆密封环”和 TW126873“于电浆处理室中大量消除未局限电浆之聚焦环配置 ”。并在在台湾发起了针对中微公司台湾分公司及其关联企业的侵权诉讼。

  随后,中微公司以事实回应泛林的指控并指出泛林所提出的被侵权的根本就是无效的。2009年6月,泛林公司除了仅保留与 TW136706相关的部分侵权主張外,撤回了它其他大多数的侵权主張。台湾智慧财产法院法官在听取双方针对有效性问题辩论后,基于不需要更进一步的調查关于侵权的争议点,在2009年9月8日驳回了该案,并认定泛林集团主张遭到侵害的是无效的。

  这个胜利对中微公司意义重大,并保证了中微公司能够持续在台湾市场布局和推广其技术的产品。

  中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士表示:“中微公司极度重视自主创新和知识产权保护。我们在研发方面大量投入,致力于为我们的全球用户带来创新性的技术和解决方案。与此同时,我们全力保护我们的专有技术与知识产权,我们不容忍侵犯公司商业机密或其他不光彩的行为。本次终审的胜诉判决,再次凸显了中微公司保护自身权益的决心,也展示了监管部门对国内外市场主体一视同仁的公正立场。”

  值得一提的是,在数年前,中微公司在与美国半导体设备厂商Veeco的相关专利侵权诉讼当中也获得胜利。

  中微公司于2017年7月13日向福建省高级人民法院正式起诉维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司(以下简称“Veeco上海”)专利侵权,申请对Veeco上海发布永久禁令,要求禁售相关侵权的MOCVD设备,以及在该等MOCVD设备中使用的基片托盘,并赔偿中微经济损失1亿元人民币以上。

  随后,Veeco上海向国家知识产权局专利复审委员会(以下简称“专利复审委”)提交专利无效宣告请求,主张中微专利无效。另外,还有一位自然人也对该涉案专利提起了无效宣告请求。针对两个请求,专利复审委先后分别开庭审理,并于2017年11月24日驳回了两个无效宣告请求,确认中微专利有效。

  2017年12月8日,中国福建省高级人民法院同意了中微公司针对Veeco上海禁令申请,该禁令立即生效执行,不可上诉。

  据中微半导体官网介绍,刻蚀是半导体器件制造中选择性地移除沉积层特定部分的工艺。在半导体器件的整个制作的完整过程中,刻蚀步骤多达上百个,是半导体制造中最常用的工艺之一。

  中微公司专注于研发干法刻蚀(等离子体刻蚀)设备,用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除(刻蚀)材料。根据所要去除材料和加工器件结构的不同,可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。

  新电子材料的集成和加工器件尺寸的不断缩小为刻蚀设备带来了新的技术挑战,同时对性能的要求(刻蚀均匀性、稳定性和可靠性)慢慢的升高。中微公司凭借一系列刻蚀设备组合处于刻蚀创新技术的前沿,帮助芯片制造商加工10纳米、7纳米甚至5纳米及更先进的微观结构,具有成本优势。

  中微公司自主研发生产的刻蚀设备已被众多领先客户的芯片生产线所采用,用来制造先进的半导体器件,以推动人工智能、机器学习和机器人技术的发展。这些半导体器件还能提供逻辑和存储器,以应用于消费者电子科技类产品、5G网络、功能强大的服务器、无人驾驶汽车、智能电网等领域。

  关键字:编辑:王兆楠 引用地址:中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业机密案,终审胜诉!

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  今年投资市场最为隆重的事情,莫过于科创板的设立。 从提出概念到正式开板再到第一股上市申购,只用了短短几个月的时间。 在科创板上市的第一家公司是华兴源创,这是一家以手机、平板电脑的面板检测为主营业务的公司,大客户是苹果,公司的大多数营收都来自苹果及其供应链企业。 尽管如此,公司还是竭尽全力的在招股书里提到芯片概念,一再声称自己是做芯片的。虽然公司在芯片业务领域充满了激情和设想,但毕竟落地的核心业务还是面板检测。 几乎在华兴源创发行的同时,6月26日,一家真正的芯片企业提交了科创板IPO注册申请。不出意外的话,它将成为第一个芯片概念的科创板上市公司。它就是中微半导体(股票简称:中微公司)。 一、中微半导体是做什么的

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  美国维易科精密仪器有限公司(Veeco,以下简称“维易科”)、中微半导体设备(上海)有限公司(AMEC)(以下简称“中微”)和西格里碳素(SGL,以下简称“西格里”)于今日共同宣布,同意就三方之间的未决诉讼达成和解,并友好地解决所有的未决纷争,包括中微在福建高院针对维易科的诉讼和维易科在美国纽约东区地方法院针对西格里的诉讼。 维易科的董事长兼首席执行官约翰·皮勒就此事评述:“我高兴地报告大家,我们已达成了一个共同商定的对现存知识产权纠纷的和解方案。这使我们的MOCVD业务回到正常状态运营。” 中微董事长兼首席执行官尹志尧博士 中微董事长兼首席执行官尹志尧博士评述道:“竞争对手们基于全球客户的利益该怎么样才能解决好知识产权事宜,这次和解

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  近日,中微公司在接受机构调研时表示,公司前期与多家客户合作,按照每个客户需求进行产线评估验证并取得良好进展。公司于2021年6月17日正式对外发布用于高性能Mini LED量产的MOCVD设备Prismo UniMax™。 在刻蚀设备方面,中微公司已确定进入多家全球主流的晶圆制造商。市占率目前没有官方的统计数据 来源,在大陆地区的主要客户里面已经处于主流供应商地位,且市占率在不断的提高。 另外,中微公司的电感性等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线年底,中微公司的ICP设备Primo Nanova设备已有55个反应台在客户端运转,2021年6月,公司ICP设备Primo Nanova第100台反应腔顺利交

  预防性维护 称之为“湿法”实为“干法”,这听起来像谜语,但对于等离子体工艺设备来说,答案就是“湿法清洗”,一种重要的预防性维护方式。 “湿法清洗”一词源自行业早期的预防性维护方式,即拆卸反应腔室并将石英部件浸入酸水冲洗,之后再晾干并重新组装。如今对需要高精度维护的设备而言,其中唯一涉及“湿”的常用物质便是去离子水湿润过的无绒布,不过“湿法清洗”这个传统称谓却被沿用至今。所以,维护方式被称为“湿法”,但实际上却是“干法”。 预防性维护的目标是保持设备的正常运行和最好能够降低任何计划外的停机,因为这种停机一般会严重扰乱生产、会导致较高的成本以及生产损失。如同一辆汽车,定期更换发动机油是最大限度延长汽车常规使用的寿命和提升性能

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