以人为本脚踏实地
等离子蚀刻设备射频电源作业原理：当chamber内部之压力低到某一程度(约10-1 torr左右)时, 气态正离子开端往负电极移动, 因为受电场效果会加快碰击负电极板, 发生电极板外表原子, 杂质分子和离子以及二次电子(e-)…等, 此e-又会受电场效果往正电极方向移动, 于移动进程会碰击chamber内之气体分子(ex. : Ar原子…等), 发生Ar+等气态正离子, 此Ar+再受电场的效果去碰击负电极板, 又再发生外表原子以及二次电子(e-)…等, 如此循环往复之效果即为Plasma发生之原理
等离子蚀刻设备射频：射频（RF）是Radio Frequency的缩写，频率规模从300KHz～30...
等离子蚀刻设备均匀性计算公式出自：行业界通用的办法，[1-(max-min)/2*average]*...
竞争对手的等离子蚀刻设备电极选用：方通焊接/有焊接点，缺陷是：升温速率慢、咬蚀速率慢、均匀性差、电极...
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